| No. | Publication Number | Title | Publication/Patent Number Publication/Patent Number |
Publication Date
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Filing Date
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Inventor Inventor | Assignee Assignee |
IPC
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1 | CN112346298A |
一种大尺寸压印模具及其制备方法
Public
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Publication/Patent Number: CN112346298A | Publication Date: 2021-02-09 | Application Number: 201910722837.X | Filing Date: 2019-08-06 | Inventor： 林晓辉 成海涛 杨兆国 顾永新 | Assignee: 上海量子绘景电子股份有限公司 | IPC: G03F7/00 | Abstract: 本发明提供一种大尺寸压印模具及其制备方法，所述制备方法包括：提供若干原始压印模具，并对若干所述原始压印模具进行切割处理以去除其非有效图形区域，从而得到有效图形压印模具；提供一由下至上依次包括支撑板和粘附层的基板，并将若干所述有效图形压印模具按预设规则排布于所述粘附层上，其中所述有效图形压印模具设有压印图形的一表面与所述粘附层接触；对排布于所述粘附层上的若干所述有效图形压印模具进行塑封，之后去除所述基板以暴露出所述压印图形，从而形成大尺寸压印模具。通过本发明提供的大尺寸压印模具及其制备方法，解决了传统刚性压印模具无法实现大尺寸的问题。 | |||
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2 | US2021003914A1 |
IMPRINT TEMPLATES AND METHODS FOR FORMING IMPRINTED PATTERNS USING THE SAME
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Publication/Patent Number: US2021003914A1 | Publication Date: 2021-01-07 | Application Number: 17/027,825 | Filing Date: 2020-09-22 | Inventor： Jung, Wooyung | Assignee: SK hynix Inc. | IPC: G03F7/00 | Abstract: Methods for forming imprinted patterns using an imprint template. The imprint template may include at least an imprint portion and a photomask portion. The imprint portion may include imprinting patterns. The imprinting patterns may be transferred into a first imprint shot region of a resist layer. The photomask portion may include light blocking patterns. The light blocking patterns may provide a light permeation area corresponding to a boundary region defining a second imprint shot region of the resist layer. | |||
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3 | CN112219164A |
用于生产多层压印母版的方法、多层压印母版及多层压印母版的用途
Substantial Examination
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Publication/Patent Number: CN112219164A | Publication Date: 2021-01-12 | Application Number: 201880090964.6 | Filing Date: 2018-03-26 | Inventor： 约翰·马尔塔比 | Assignee: 应用材料公司 | IPC: G03F7/00 | Abstract: 描述一种用于生产多层压印母版的方法。所述方法包括：提供基板(10)，所述基板具有主表面(10A)，所述主表面提供第一平面(11)；及在基板(10)中产生第一组特征(21)。第一组特征(21)提供低于第一平面(11)的第二平面(12)。此外，所述方法包括在基板(10)上产生第二组特征(22)。第二组特征(22)提供高于第一平面(11)的第三平面(13)。 | |||
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4 | CN107430329B |
纹理化分立基板的方法
Grant
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Publication/Patent Number: CN107430329B | Publication Date: 2021-02-12 | Application Number: 201680009436.4 | Filing Date: 2016-02-11 | Inventor： J·m·特尔默伦 B·j·蒂图莱尔 A·j·范埃芬 | Assignee: 莫福托尼克斯控股有限公司 | IPC: G03F7/00 | Abstract: 一种辊对板法，其包含至少一个用于纹理化或图案化分立基板如显示器、照明或太阳能板的辊，其包含以连续层的形状供应压印漆、用具有背面和正面的模具纹理化该压印漆的步骤，其中背面与所述至少一个辊摩擦接触，且其中正面表现出包含功能区的压印纹理，所述功能区由开孔和凸起形成，由此在压印纹理中创建体积(volumes)以获得已压印的漆，任选随后固化已压印的漆以获得固化的纹理化或图案化层，其特征在于所述纹理化或图案化用压印纹理进行，所述压印纹理包含起始区，其是具有可供气体逸出的纹理的导入区，其后接着具有与导入区的纹理不同的纹理的功能区。 | |||
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5 | CN112204463A |
用于利用工作流程信息持久标记柔性印刷板的方法和利用其标记的板
Substantial Examination
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Publication/Patent Number: CN112204463A | Publication Date: 2021-01-08 | Application Number: 201980037594.4 | Filing Date: 2019-02-01 | Inventor： W·西弗斯 J·希勒 J·沃尔特林克 P·托马斯 R·布鲁斯 | Assignee: 埃斯科绘图成像有限责任公司 | IPC: G03F7/00 | Abstract: 用于制造柔性印刷板的系统和方法，以及供与其一起使用的板、机器、读取器和计算机可读介质。在系统中，多个处理机器（每个处理机器被配置成执行工作流程中的一个或多个过程步骤）包括控制器，由控制器控制的可变操作参数，以及被配置成读取柔性印刷板上的机器可读记号的读取器。机器可读记号（例如条形码、RFID标签、文本）被配置用于在洗涤（和切割）步骤下游的持久可读性，而无需在印刷步骤中印刷。记号可以体现至少包括板标识符和与用于处理机器中的每个的至少一个可变操作参数对应的指令的信息，或者与信息驻留的计算机存储装置中的地址对应的信息。 | |||
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6 | CN112213916A |
一种振动辅助的纳米辊压装置
Substantial Examination
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Publication/Patent Number: CN112213916A | Publication Date: 2021-01-12 | Application Number: 201910617379.3 | Filing Date: 2019-07-10 | Inventor： 谷岩 林洁琼 康洺硕 张昭杰 陈斯 易正发 徐贞潘 李先耀 颜家瑄 徐宏宇 冯开拓 戴得恩 刘骜 卢发祥 段星鑫 | Assignee: 长春工业大学 | IPC: G03F7/00 | Abstract: 本发明涉及一种振动辅助的纳米辊压装置,首先，将机架水平放置于实验台上，然后调节X‑Y轴位移平台使Z向振动装置位于压印辊的正下方，再将已涂胶衬底固定于衬底卡盘中心，调节微调装置使压印辊水平，然后控制Z轴位移平台下移使压印辊与压印胶微接触，启动加热装置对衬底进行加热，加热完毕后开始压印，压印同时Z向振动装置开始振动，然后冷却脱模，最后控制Z轴位移平台上升，压印结束。本发明中采用Z向振动装置，使模板与压印胶之间产生间隙接触，减少两者之间的粘附力，通过多次间隙接触进行摩擦产热，使得压印胶融化流动，提高压印胶的填充度，再通过微调装置调节压印辊水平，冷却装置进行降温，进一步提高微纳结构的精度与保真度。 | |||
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7 | CN112213918A |
一种基于非谐振辅助的纳米压印装置
Substantial Examination
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Publication/Patent Number: CN112213918A | Publication Date: 2021-01-12 | Application Number: 201910617395.2 | Filing Date: 2019-07-10 | Inventor： 谷岩 林洁琼 陈斯 徐宏宇 康洺硕 冯开拓 颜家瑄 李先耀 张昭杰 徐贞潘 易正发 戴得恩 段星鑫 卢发祥 辛成磊 | Assignee: 长春工业大学 | IPC: G03F7/00 | Abstract: 本发明公开了一种基于非谐振辅助的纳米压印装置，首先将衬底放在衬底卡盘中，调节Y轴位移平台及X‑Z轴位移平台使衬底移动到模板正下方，再控制X‑Z轴位移平台使压印装置向下运动，直至压印装置与衬底微接触，控制X‑Z轴位移平台进行压印，在压印同时使用Z向振动平台对衬底施加Z向振动，然后利用冷却装置对衬底进行冷却固化，最后用揭开式振动辅助的方法进行脱模，本发明采用Z向振动平台带动衬底进行压印，提高模板空腔的填充率与微纳图案的分辨率；采用吸气泵及多个独立封闭通道在脱模时实现揭开式脱模，在模板在与衬底逐渐分离的同时进行振动辅助，减小模板与压印胶间的粘附力，从而减少脱模时对模板造成的损伤与毁坏，延长模板的使用寿命。 | |||
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8 | CN112180679A |
一种制备图案化聚合物的方法
Substantial Examination
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Publication/Patent Number: CN112180679A | Publication Date: 2021-01-05 | Application Number: 201910598079.5 | Filing Date: 2019-07-03 | Inventor： 李远航 张行 万明明 邓杨臻 李源 | Assignee: 深圳碳森科技有限公司 | IPC: G03F7/00 | Abstract: 本发明公开了一种制备图案化聚合物的方法，涉及微流控芯片的技术领域，本发明包括以下步骤：S1.喷涂光刻胶、S2.图案转移、S3.显影液显影、S4.涂覆聚合物、S5.溶解聚合物、S6.光刻胶脱模。本发明中，聚合物与图案化光刻胶之间的分离由传统的剥离转换成溶解分离，聚合物与图案化光刻胶的分离过程更加平缓，图案化聚合物结构不易损坏，生产质量更高，且操作难度、对设备精度、操作环境要求更低，生产质量更加稳定、生产更加高效。 | |||
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9 | CN112285997A |
一种新的纳米压印制备反型微纳结构的方法
Public
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Publication/Patent Number: CN112285997A | Publication Date: 2021-01-29 | Application Number: 202011222584.9 | Filing Date: 2020-11-05 | Inventor： 张威 | Assignee: 张威 | IPC: G03F7/00 | Abstract: 本发明提供了一种新的纳米压印制备反型微纳结构的方法，包括纳米压印模板选择、反型材料选择、低表面能修饰剂选择，以及制备过程。自然界的生物结构是多种多样潜力无穷的，比如说壁虎脚底的吸附性，蝴蝶翅膀表面的周期性结构等等，都赋予了这些生物各自独有的特性。然而这些生物的结构是很复杂的，采用人工模拟生长的方式极难完成，我们发明的方法则提供了一种可能。通过进一步的发展完善，就有可能很好的复制出自然界这些生物的微纳结构从而使人类的材料同样具有这些生物的一些优良特性。这些特性可以广泛的应用于太阳能电池，油水分离，自清洁材料，光通信材料等高新科研领域。本发明是一种可以对自然界各种微纳结构的有效的复制方法。 | |||
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10 | EP3776079A1 |
METHOD FOR PERSISTENT MARKING OF FLEXO PLATES WITH WORKFLOW INFORMATION AND PLATES MARKED THEREWITH
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Publication/Patent Number: EP3776079A1 | Publication Date: 2021-02-17 | Application Number: 19703069.5 | Filing Date: 2019-02-01 | Inventor： Sievers, Wolfgang Scheele, Joachim Wolterink, Jörg Thomas, Pascal Bruce, Robert | Assignee: Esko-Graphics Imaging GmbH | IPC: G03F7/00 | ||||
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11 | CN212569416U |
纳米压印设备用组合式吸盘
Grant
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Publication/Patent Number: CN212569416U | Publication Date: 2021-02-19 | Application Number: 202021761500.4 | Filing Date: 2020-08-21 | Inventor： 冀然 | Assignee: 青岛天仁微纳科技有限责任公司 | IPC: G03F7/00 | Abstract: 本实用新型提出一种纳米压印设备用组合式吸盘，包括，第一基盘，其与纳米压印设备的机体连接，所述第一基盘上设置有真空槽组，与所述真空槽组连接有真空发生装置，以在所述真空槽组内产生负压可固定圆形基片，所述第一基盘上方可放置有第二基盘，所述第二基盘可通过所述真空槽组内产生的负压固定在所述第一基盘的上表面，在所述第二基盘的上部设置有可用于容纳异形基片的容纳部，所述容纳部与所述真空槽组连通，以在所述容纳部内产生负压可固定异形基片。本实用新型可以吸附圆形基片，也可以吸附除圆形以外其他形状的基片，且能够保证压印结构的平行度，节约了成本，提高了生产效率。 | |||
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12 | EP3555706B1 |
METHOD FOR FUNCTIONALISING A SUBSTRATE
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Publication/Patent Number: EP3555706B1 | Publication Date: 2021-01-27 | Application Number: 17816648.4 | Filing Date: 2017-12-07 | Inventor： Landis, Stefan Tiron, Raluca | Assignee: Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives | IPC: G03F7/00 | ||||
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13 | CN105372933B |
压印光刻法的矩形基材和制备方法
Grant
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Publication/Patent Number: CN105372933B | Publication Date: 2021-02-02 | Application Number: 201510510609.8 | Filing Date: 2015-08-19 | Inventor： 冈藤大雄 山崎裕之 安藤雅郎 竹内正树 | Assignee: 信越化学工业株式会社 | IPC: G03F7/00 | Abstract: 通过提供具有研磨的前后表面和四个侧面的起始矩形基材，和在恒压下将旋转抛光垫垂直地压靠于一个侧面，和使该旋转抛光垫和该基材平行于该侧面相对运动，由此抛光该基材的该侧面，从而制备矩形基材。在压印光刻法中，该矩形基材能够以高精度控制压缩和图案形状，并由此能将微细特征尺寸的复杂图案转印至接收体。 | |||
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14 | CN112241104A |
一种磁吸式模板罩盖治具
Substantial Examination
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Publication/Patent Number: CN112241104A | Publication Date: 2021-01-19 | Application Number: 201910658564.7 | Filing Date: 2019-07-19 | Inventor： 史晓华 刘晓成 | Assignee: 苏州光舵微纳科技股份有限公司 | IPC: G03F7/00 | Abstract: 本发明公开了一种磁吸式模板罩盖治具，包括底板，其上表面具备与模板竖向投影吻合的承载面，承载面外轮廓呈优弧弓形，承载面四周一圈具备凹陷的环形槽；压环，与环形槽的竖向投影吻合，压环与环形槽可拆卸地装配；盖板，包括与压环上表面具备吸附力的盖环，盖环中间具备透明板，盖环上还具备上凸的把手；压环、盖环为铁磁性材料。采用此发明利用磁吸力吸附并提出压环，从而让出替换模板的空间，对模板的替换高效且安全。 | |||
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15 | CN112213917A |
一种匀强电场辅助纳米压印成型装置及方法
Substantial Examination
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Publication/Patent Number: CN112213917A | Publication Date: 2021-01-12 | Application Number: 201910617394.8 | Filing Date: 2019-07-10 | Inventor： 谷岩 林洁琼 陈斯 李先耀 康洺硕 冯开拓 张昭杰 徐宏宇 徐贞潘 颜家瑄 易正发 戴得恩 卢发祥 刘骜 段星鑫 | Assignee: 长春工业大学 | IPC: G03F7/00 | Abstract: 一种匀强电场辅助纳米压印成型装置及方法通过调节压印装置的上、下两电极板之间的电压来控制极板之间产生的匀强电场力，并以匀强电场力作为压印力进行压印，脱模时向两电极板之间反复施加正反两方向的等大可调电压，形成正反向的匀强电场力并以此作为脱模力，使压印模具与衬底分离。本发明采用匀强电场力作为压印力，使得压印模具受到均匀的力可使模具上的微结构更好的转印至基板上，同时以反复的正反两方向的匀强电场力作为脱模力，保证在脱模过程中图案的完整性，并且在脱模过程中通过调节水平调节装置，调节得到适宜的脱模角度，提高压印图案精度及分辨率。 | |||
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16 | CN112305859A |
一种纳米压印模板及其制备方法和应用
Public
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Publication/Patent Number: CN112305859A | Publication Date: 2021-02-02 | Application Number: 202011289118.2 | Filing Date: 2020-11-17 | Inventor： 陈佩佩 褚卫国 田毅 黄辉 徐丽华 徐陶然 | Assignee: 国家纳米科学中心 | IPC: G03F7/00 | Abstract: 本发明涉及一种纳米压印模板及其制备方法和应用，所述纳米压印模板包括依次层叠设置的硬质承载背板、弹性层和硬质模板层；所述硬质模板层包括至少两个互不接触的压印模块，所述压印模块包括层叠设置的第一模板层和第二模板层，所述第二模板层靠近所述弹性层；在垂直于所述硬质承载背板方向，所述第一模板层的投影面积小于所述第二模板层的投影面积；所述第一模板层上设置有压印图形区，所述压印图形区周围存在贯通式沟道结构的应力分化区。所述应力分化区用于调整压印过程中图形区的受压应力。本发明提供的纳米压印模板显著提升了压印模板/压印胶界面微区应力分布的均一性，及模块之间应力应变容许度，从而显著提升了单次大面积压印成功率。 | |||
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17 | CN112363367A |
一种多阶图形纳米压印的方法
Public
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Publication/Patent Number: CN112363367A | Publication Date: 2021-02-12 | Application Number: 202011446579.6 | Filing Date: 2020-12-09 | Inventor： 张琬皎 王伟俊 | Assignee: 杭州欧光芯科技有限公司 | IPC: G03F7/00 | Abstract: 本发明公开了一种多阶图形纳米压印的方法。选择衬底；在衬底上形成纳米压印胶层或使用PMMA板；使用第一压印模具对PMMA板或加热至玻璃化温度的纳米压印胶层进行第一次压印；纳米压印胶层或PMMA板冷却固化，冷却固化后与第一压印模具分离，分离后形成第一纳米压印图形；使用第二压印模板对第一纳米压印图形进行第二次压印；纳米压印胶层或PMMA板冷却固化，冷却固化后与第二压印模具分离，分离后形成第二多阶纳米压印图形。本发明不受到最短曝光波长的物理限制，其分辨率只与模具图案尺寸有关，省去了采用图形复制的加工方法，具有效率高、成本低等优点。 | |||
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18 | US2021041782A1 |
IMPRINT TEMPLATE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
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Publication/Patent Number: US2021041782A1 | Publication Date: 2021-02-11 | Application Number: 16/807,566 | Filing Date: 2020-03-03 | Inventor： Higuchi, Takeshi Kato, Hirokazu Okabe, Kasumi | Assignee: KIOXIA CORPORATION | IPC: G03F7/00 | Abstract: An imprint template includes a substrate, a resin film, and a resist-repellant layer. The resin film is provided on the substrate and has an imprint pattern therein. The resist-repellant layer is provided on a surface of the imprint pattern. The resist-repellant layer includes an inorganic element. A method for manufacturing an imprint template includes pressing a substrate against a resin film that has been solidified in a mold having a pattern therein. The resin film having an imprint pattern corresponding to the pattern is thereby transferred to the substrate. A resist-repellant layer is then formed on a surface of the imprint pattern. The resist-repellant layer includes an inorganic element. | |||
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19 | CN112198759A |
压印模具、压印模具的制作方法、纳米压印方法
Substantial Examination
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Publication/Patent Number: CN112198759A | Publication Date: 2021-01-08 | Application Number: 202011132054.5 | Filing Date: 2020-10-21 | Inventor： 陈福成 | Assignee: 中芯集成电路制造（绍兴）有限公司 | IPC: G03F7/00 | Abstract: 本申请涉及一种压印模具、压印模具的制作方法、纳米压印方法以及硅通孔的制作方法，其中压印模具包括：模具主体，具有压印图形；无机膜层，覆盖模具主体具有压印图形的表面；有机膜层，位于无机膜层背离模具主体的表面。本申请可以在纳米压印时进行干净有效的脱模，从而解决脱模过程中的压印材料与模具的粘附问题。 | |||
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20 | CN112327576A |
纳米压印软模固定装置和纳米压印设备
Public
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Publication/Patent Number: CN112327576A | Publication Date: 2021-02-05 | Application Number: 202011152839.9 | Filing Date: 2020-10-23 | Inventor： 臧法珩 赵东峰 王喆 饶轶 | Assignee: 歌尔股份有限公司 | IPC: G03F7/00 | Abstract: 本发明公开一种纳米压印软模固定装置和纳米压印设备，其中，纳米压印软膜包括压印部、及分设于压印部相对两端的两连接部，纳米压印软模固定装置包括：至少一限位杆组，包括相并行的两限位杆，每一限位杆具有用以供连接部绕接的弧形面；以及两牵引机构，分别与两连接部连接；压印部位于限位杆组的一侧，两牵引机构分别用以将连接部朝限位杆组的另一侧拉伸牵引，以使压印部张紧于限位杆组上。本发明技术方案旨在平整固定纳米压印软模，以提升纳米压印的图形转移质量。 |
3.Current Quota